Desarrollo de dispositivos de fotónica integrada

Experto

Ámbito: Enxeñería eléctrica, enxeñería electrónica e enxeñería da telecomunicaciónCódigo: TCS:1157/1
Área de interés principal: Tecnoloxía | Área de interés secundaria: Ciencias

Inicio y fin

03/02/2025 – 24/07/2025

Modalidad

Modalidad no informada

Créditos ECTS

25.0 ECTS

Estado

Preinscripción

20 plazas

 

Descripción

Este programa formativo, a cargo de la Cátedra NextChip de la Universidad de Vigo, capacitará a los participantes en el diseño, prueba y empaquetado de chips fotónicos.

La Cátedra NextChip (http://nextchip.es/), financiada por el Ministerio de Asuntos Económicos y Transformación Digital a través de la Secretaría de Estado de Telecomunicaciones e Infraestructuras Digitales, con fondos del Mecanismo Europeo de Recuperación y Resiliencia, desarrolla herramientas de testeo y caracterización de chips fotónicos y electrónicos de nueva generación.

Dentro del mercado global de semiconductores, la demanda de dispositivos fotónicos está creciendo anualmente a ritmos próximos al 20%, con Europa apostando por el aumento de su capacidad productiva con la puesta en marcha de nuevas plantas de fabricación (foundries). Los chips fotónicos son esenciales para las necesidades del desarrollo tecnológico en automoción, comunicaciones, computación cuántica, defensa, dispositivos médicos y electrónica de consumo.Esta formación es una excelente oportunidad para ganar competencias en estas tecnologías y adquirir una preparación muy demandada en el mercado laboral nacional y europeo.

El programa completo, que consta de tres módulos, lleva a la obtención del título de «Experto en desarrollo de dispositivos de fotónica integrada» y se desarrolla durante seis meses con inscripción 100% subvencionada para los participantes. Los módulos son independientes y pueden cursarse por separado. La superación de cada módulo otorgará un Diploma de Curso Avanzado de Postgrado, aunque la capacitación completa en forma de título de Experto requerirá la superación del total de los tres módulos.

 

Director/a:

Carlos Mosquera Nartallo; Francisco Javier Díaz Otero

Teléfono contacto:

986130304

Email contacto:

nextchip@uvigo.es

Entidad organizadora:

Centro de Posgrado y Formación Permanente

PERÍODO DE INSCRIPCIÓN
Inscripción abierta
25/11/2024 – 30/01/2025


PERÍODO DE MATRÍCULA
Matrícula abierta
16/12/2024 – 31/01/2025

Inscripción / Matrícula

 

 

Modalidad

Docencia presencial/virtual

169 horas

Docencia no presencial

68 horas

Prácticas en empresa

0 horas

Lugar de impartición

Las clases presenciales tendrán lugar en la Ciudad Tecnológica de Vigo (CITEXVI), en el Campus de Vigo. Además habrá una estancia de una semana en el laboratorio del International Iberian Nanotechnolog (INL) en Braga (Portugal), que según el grupo de trabajo podrá coincidir en la semana del 10 o 17 de marzo de 2025. 
Las clases en línea, serán a través de la plataforma del Campus Remoto y Moovi.

 

Horario

De lunes a viernes de 15:30 a 19:30 horas en Ciudad Tecnolóxica de Vigo (CITEXVI).

Las clases que se imparten en International Iberian Nanotechnology Laboratrory (INL) en Braga serán de 09:30 a 12:30 h y de 16:00 a 18:00 h.

Las clases finalizarán previsiblemente el 13 de junio de 2025.

 

 

Precios

Público en general Alumni UVigo Comunidad UVigo
0 € 0 € 0 €

Observaciones a los precios
100% financiada por el Ministerio de Asuntos Económicos y Transformación Digital a través de la Secretaría de Estado de Telecomunicaciones e Infraestructuras Digitales, con fondos del Mecanismo Europeo de Recuperación y Resiliencia

 

Objetivos

El título de Experto busca la capacitación en diseño, medida, fabricación y empaquetado de dispositivos fotónicos e electrónicos. Los diferentes módulos son auto contenidos, con una importante formación práctica, con la finalidad de preparar a los participantes para su incorporación a la creciente oferta de puestos cualificados en plantas de diseño y producción de chips fotónicos. La mayor parte de la formación se llevará a cabo en el Campus de la Universidad de Vigo en Lagoas-Marcosende, con cierta formación adicional en el Laboratorio Internacional Ibérico de Nanotecnoloxía, en Braga.

 

Destinatarios

Esta formación está especialmente dirigida a estudiantes y titulados universitarios en el ámbito de la tecnología, principalmente Física e Ingenierías, como Telecomunicación, Electrónica, Mecánica… u otros profesionales con experiencia laboral en el ámbito de la formación.

Para el acceso al título de experto:

  • Estar en posesión de un título universitario dentro del EEES, que otorgue acceso a enseñanzas oficiales de postgraduado.
  • Estar en posesión de un título extranjero, ajeno al EEES, homologado a un título universitario oficial del EEES.

Además se eres profesional con experiencia laboral acreditada o tienes superados 120 ECTS en una titulación universitaria oficial dentro del EEES o equivalente, o un título extranxeiro homologado a un título EEES, tienes la opción de poder cursar dos de los módulos por separado. Consulta la página de títulos propios

 

Salidas Profesionales

Los campos específicos a los que los estudiantes pueden acceder profesionalmente tras finalizar el curso son cada vez más amplios dado el carácter interdisciplinar y la creciente importancia de la fotónica, que, como ya se indicó, fue seleccionada como una de las cinco KET por la Unión Europea, y en particular la fotónica integrada. Aquellos participantes que cursen todos los módulos de la presente formación adquirirán los siguientes conocimientos y capacidades: diseño y prueba de PICs basados en dispositivos pasivos y activos; diseño y prueba de componentes electrónicos pasivos de alta velocidad; principios de la fabricación de PICs en sala limpia; empaquetado de PICs en módulos; aplicación de la fotónica al procesado cuántico; gestión de proyectos y transferencia tecnológica.

 

Idioma

  • Castellano 60%
  • Inglés 40%

 

Competencias Específicas

  • Capacidad de comprensión de las distintas disciplinas involucradas en la fotónica
  • Entender el proceso de diseño y prueba de dispositivos fotónicos tanto activos como pasivos
  • Entender el proceso de diseño y prueba de componentes electrónicos pasivos de alta velocidad
  • Manejo de herramientas para el diseño de circuitos integrados fotónicos
  • Conocer los principios de fabricación de PICs en sala limpia
  • Entender y manejar las herramientas para el empaquetado de PICs en módulos
  • Capacidad para simular y probar circuitos fotónicos con aplicaciones cuánticas

 

Competencias Transversales

  • Capacidad para gestionar proyectos tecnológicos
  • Conocimientos de gestión de activos de propiedad intelectual e industrial

 

Condiciones de acceso

  •  Estar en posesión de un título universitario dentro do EEES, que otorgue acceso a enseñanzas oficiales de posgraduado.
  •  Estar en posesión de un título extranjero, ajeno al EEES, homologado a un título universitario oficial do EEES.
Documentación requerida: 
1) Documento de identificación
2) Copia del título universitario o certificado de estudios previos necesarios para el acceso
3) Expediente académico en el caso de los alumnos de alguna titulación del EEES o equivalente
4) Currículum
5) Carta de motivación

 

Criterios de selección

La Dirección del título podrá realizar entrevistas personales si lo considera oportuno para una mejor comprensión de los méritos alegados, y podrá establecer nuevos criterios compatibles con los anteriores para concretar la aplicación de los principios y criterios enunciados. En ese caso, la puntuación será:

  • Currículum 60%,
  • Carta de motivación: 20%
  • Entrevista personal: 20%

 

Metodología

El título busca la capacitación en diseño, medida, fabricación y empaquetado de dispositivos fotónicos y electrónicos con una importante formación práctica con la finalidad de preparar a los participantes para su incorporación a la creciente oferta de puestos cualificados en plantas de diseño y producción de chips fotónicos.

1)Diseño y prueba de circuitos integrados fotónicos 11 ECTS
– Deseño e proba de circuitos integrados fotónicos pasivos 4 ECTS
– Deseño e proba de circuitos integrados fotónicos activos 4 ECTS
– Deseño e proba de circuitos integrados de RF pasivos 3 ECTS
2)Fabricación en empaquetado de circuitos integrados fotónicos 7 ECTS
– Fabricación en sala limpia de circuitos integrados fotónicos 4 ECTS
– Empaquetado de circuitos integrados 3 ECTS
3)Tecnologías cuánticas y gestión de proyectos 7 ECTS
– Tecnologías cuánticas 3 ECTS
– Gestión de proyectos e transferencia de tecnología 4 ECTS

 

Asignaturas

id nombre caracter créditos
200470 Diseño y medida de circuitos integrados fotónicos Obligatoria 11.0
200471 Fabricación y empaquetado de circuitos integrados fotónicos Obligatoria 7.0
200472 Tecnologías cuánticas y gestión de proyectos Obligatoria 7.0

 

Profesorado

Profesorado de la Universidad de Vigo 
  • Francisco Manuel Da Luz Soares
  • David Álvarez Outerelo
  • Carlos Mosquera Nartallo
Profesorado externo 
  • Xin (Scott) Yin
  • Peter O´Brien
  • Jana Niedder
  • Bruno Romeira
  • David Barral Raña
  • Manuel Gallas Torreira
  • Daniel González Jímenez
  • Antía Fernández López

 

Evaluación

Para la evaluación del alumnado, se tendrá en cuanta lo siguiente:
– Asistencia a las clases
– Pruebas y ejercicio de evaluación continua que se irán realizando durante el curso
– Evaluación de los informes de prácticas
– Cuestionarios
– Evaluación de un trabajo final presentado

 

Titulación

El estudiantado recibirá un título de Experto en desarrollo de dispositivos de fotónica integrada

 

Más información

www.nextchip.es